EM3i系统是一种专用、自动化、省时且用户友好的系统，可在广泛的应用中为横截面和平面视图提供 TEM/STEM 和 SEM 样品制备。EM3 系统采用低温冷却干锯工艺，可制备结晶或无定形材料的样本。输出样本安装在兼容的 TEM 支架上，允许返工。

系统亮点

• 适用于特定场地和一般区域

• 允许对 TEM 样品进行多次返工

• 与广泛而集中的离子铣削接口

• 提高总体吞吐量

• 改进产量分析

• 改善表征

• 拥有成本低

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防紫外线遮蔽胶技术

通过离子铣削制备 TEM 薄片样品的过程需要遮蔽目标区域，以防止过度铣削目标，并允许实现极薄的 TEM 薄片而没有伪影。

独特的 Protected UV Masking Glue 的独特之处在于它能够防止高能离子束过度研磨目标，填充晶圆工艺光刻中的非常小的空间，并保护晶圆顶层的极薄薄片免受离子损坏光束。

Protected UV Masking Glue 的工作原理

防紫外线遮蔽胶的性能

• Protected Masking Glue 具有导电性，可避免在离子铣削过程中带电。

• Protected Masking Glue对不同的晶圆材料有很强的附着力。

• Protected Masking Glue 具有低粘度和纳米尺寸的导电材料，可以填充晶圆光刻中小至几纳米尺寸的狭窄空间。

• Protected Masking Glue 可在几十秒内进行紫外线固化。

EM3i 系统中使用受保护的 UV 掩蔽胶技术来保护目标区域，以便通过自适应离子铣削进行后续 TEM 样品制备。当掩模的导电性很关键时，这种保护方法可用于防止不同目的的目标和区域的损坏。

查看EM3i系统中如何使用 UV 遮蔽胶

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